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J-GLOBAL ID：200902259243335901   整理番号：07A0548829

HF/FeCl3水溶液中でフォトエッチングした発光多孔質シリコンの特性

Properties of light-emitting porous silicon photoetched in aqueous HF/FeCl3 solution
著者 (2件)：
XU Yan Kai

XU Yan Kai について

(Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Gunma Univ., Kiryu-shi, Gunma 376-8515, JPN)

Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Gunma Univ., Kiryu-shi, Gunma 376-8515, JPN について

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ADACHI Sadao

ADACHI Sadao について

(Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Gunma Univ., Kiryu-shi, Gunma 376-8515, JPN)

Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Gunma Univ., Kiryu-shi, Gunma 376-8515, JPN について


資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 101  号： 10  ページ： 103509  発行年： 2007年05月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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酸化剤FeCl3を加えたHF溶液中での...
シソーラス用語：
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半導体薄膜

半導体薄膜 について

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Fourier変換赤外吸収スペクトル

Fourier変換赤外吸収スペクトル について


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分類 (2件)：
分類
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半導体のルミネセンス 
(BM08092S)

半導体のルミネセンス について

,  半導体の表面構造 
(BK15030A)

半導体の表面構造 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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HF

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FeCl3

FeCl3 について

, 
水溶液

水溶液 について

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フォトエッチング

フォトエッチング について

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多孔質シリコン

多孔質シリコン について


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