文献

J-GLOBAL ID：200902259686644842   整理番号：07A1174410

新規機械化学分散装置を用いた乾式コーティング法による徐放性微粒子の調製(その2)

著者 (8件)： 湯淺宏 (松山大 薬) ,  坂本宜俊 (松山大 薬) ,  加来鉄平 (松山大 薬) ,  西田渉 (キッセイ薬品工業) ,  永沼剛 (キッセイ薬品工業) ,  樺澤一弘 (東京インキ) ,  今井健吾 (東京インキ) ,  高野桂 (ダルトン)
資料名： 製剤と粒子設計シンポジウム講演要旨集
巻： 23rd  ページ： 71-74  発行年： 2006年10月21日 
JST資料番号： L5537A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 機械化学分散装置Fascinateを用いた溶媒を使用しない乾...

シソーラス用語： 乾式法 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A1174410&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L5537A") }}

分類 (1件)： 製剤一般  (GY02010Z)

物質索引 (1件)： テオフィリン

タイトルに関連する用語 (6件)： 機械化学 ,  分散装置 ,  コーティング ,  徐放性 ,  微粒子 ,  調製