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J-GLOBAL ID:200902259901520378   整理番号:09A0374427

真空ナノエレクトロニクスの現状と展望

Recent progress in vacuum nanoelectronics.
著者 (1件):
資料名:
巻: 78  号:ページ: 301-307  発行年: 2009年04月10日 
JST資料番号: F0252A  ISSN: 0369-8009  CODEN: OYBSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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電子の走行媒体としての真空は,固体に比べて数々の利点を有している。一方,固体(半導体)技術は,従来の熱電子源の性能を超える微小な電子源の開発を可能にした。真空ナノエレクトロニクスは,微細加工技術・薄膜技術を駆使して,微小な真空デバイスを製作し,従来の真空や半導体デバイスの性能に勝る,応用デバイスの開発を目的とする,真空と固体の融合学術分野である。本稿では,真空ナノエレクトロニクスの基盤技術である,微小電子源の現状をデバイス応用の観点から記述する。また応用デバイスの現状と今後の展望についても述べる。(著者抄録)
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分類 (1件):
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電子源,イオン源 
引用文献 (45件):
  • 1) C. Spindt : J. Appl. Phys. 39, 3504 (1968).
  • 2) C.Spindt,C.Holland,P.Schwoebel and I.Brodie: J.Vac.Sci. Technol. B 14, 1986 (1996).
  • 3) R. Greene, H. Gray and G. Campisi : Tech. Digest Inter. Electron Dice Meeting, 172 (1985).
  • 4) R. Meyer, A. Ghis, P. Rambaud and F. Muller : Proc. Japan Display'86, 513 (1986).
  • 5) 横尾邦義: 電子情報通信学会技術報告ED98-259,15(1999).
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