レーザ光散乱法によるSiウエハ表面の微小欠陥計測

文献

J-GLOBAL ID：200902260529832129 整理番号：05A0059674

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=05A0059674&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0059674&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L1746A") }}

著者 (2件)： ,
資料名：
巻： 16 号： 2 ページ： 36-41 発行年： 2005年02月01日
JST資料番号： L1746A ISSN： 0917-026X CODEN： HARAEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

開発した光散乱表面評価装置を用いて,鏡面Siウエハ表面に存在...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0059674&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L1746A") }}

固体デバイス製造技術一般 , 光学的測定とその装置一般

, , , , ,

前のページに戻る