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J-GLOBAL ID：200902260740447746   整理番号：09A0796427

イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製

Preparation of Polymeric Thin Films by Ion-Assisted Vapor Deposition

著者 (5件)： 臼井博明 (東京農工大) ,  外輪俊介 (東京農工大) ,  田中邦明 (東京農工大) ,  泉田和夫 (東京農工大) ,  泉田和夫 (住友精密工業)
資料名： 電気学会誘電・絶縁材料研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： DEI-09  号： 71-78  ページ： 5-8  発行年： 2009年07月23日 
JST資料番号： Z0908B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 低分子モノマーの物理蒸着とイオン照射を組み合わせ,新規な高分子製膜技術を開発した。高真空槽内でモノマー材料として亜鉛アクリレート(ZnAc)を蒸着すると同時に,電子照射型イオン源を用いて基板表面に窒素イオンを照射した。基板材料としては,金蒸着ガラス基板とPETフィルムを用い,基板温度は室温とした。製膜条件としては,ZnAc蒸着速度を0.8nm/min,イオン電流を約0.5μA/cm²,イオン加速電圧を500~2000Vとした。蒸着膜のIRスペクトルを測定した結果,イオンエネルギーを増大すると共にビニル基の吸収が減少した。さらにイオン照射によって膜は有機溶媒に不溶となり,表面粗さが減少することも観察された。これらの結果からイオン照射アシストを用いると,基板の表面改質に加えて基板表面での重合反応を促進でき,均質な高分子薄膜を形成するための新たな手法として利用できるものと期待される。(著者抄録)

シソーラス用語： *イオン照射 ,  蒸着膜 ,  *高分子薄膜 ,  *蒸着重合 ,  *物理蒸着 ,  小分子 ,  単量体 ,  スパッタリング ,  表面改質 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  赤外吸収スペクトル ,  表面粗さ
準シソーラス用語： 蒸着重合膜

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

引用文献 (8件)：

• 臼井博明,“物理蒸着法による高分子の無溶媒製膜技術”, ケミカルエンジニヤリング, Vol.51, No.2, pp. 139-144(2006).
• H. Usui,“Polymer surface modification and polymer coating by vacuum technologies”, S. Iwamori Ed., Research Signpost, Kerala, pp. 65-84(2005).
• J. R. Salem, F. O. Sequeda, J. Duran, W. Y. Lee, and R. M. Yang,“Solventless polyimide films by vapor deposition”, J. Vac. Sci. Technol., Vol.A4, No.3, pp. 369-374(1986).
• Y. Takahashi, M. Iijima, K. Inagawa and A. Itoh,“Synthesis of aromatic polyimide film by vacuum deposition polymerization”, J. Vac. Sci. Technol., Vol.A5, No.5, pp. 2253-2256(1987).
• H. Usui,“Deposition of polymeric thin films by ionization-assisted method”. IEICE Trans. Electron., Vol.E83-C, No.7, pp. 1128-1133(2000).

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン照射 ,  アシスト ,  蒸着 ,  重合膜 ,  作製