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J-GLOBAL ID：200902260848133632   整理番号：08A0800486

Ni(100)表面上に成長させたCu-Zn薄膜上のメタノール部分酸化

Methanol partial oxidation on Cu-Zn thin films grown on Ni(100) surface

著者 (4件)： IWAI Hidekazu (Dep. of Energy and Environment, Graduate School of Engineering, Utsunomiya Univ., Utsunomiya 321-8585, JPN) ,  UMEKI Tomoyuki (Dep. of Energy and Environment, Graduate School of Engineering, Utsunomiya Univ., Utsunomiya 321-8585, JPN) ,  YOKOMATSU Mutsuhiro (Dep. of Energy and Environment, Graduate School of Engineering, Utsunomiya Univ., Utsunomiya 321-8585, JPN) ,  EGAWA Chikashi (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Utsunomiya Univ., Utsunomiya 321-8585, JPN)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 602  号： 14  ページ： 2541-2546  発行年： 2008年07月15日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni(100)表面上にエピタキシャル成長させたCu-Zn薄膜上のメタノール部分酸化を高圧反応セルと組合せた超高真空(UHV)システム中で検討した。UHV中の昇温反応(TPR)および昇温脱着(TPD)によるとエピタキシャル成長させたCu薄膜上のメタノールと予め吸着した酸素との間の表面反応はHCHOと共に主にH₂およびCOを作り出したが,Znを添加するとHCHOの生成は大幅に抑制された。メタノールおよび酸素反応体導入前に420Kで薄膜をアニールするとCO₂生成物の反応速度が劇的に加速され,1ML Cuと0.25ML Znとを有する表面上でH₂およびCO₂の最大の生成が観測された。これとは異なり高圧反応セル中のメタノール部分酸化の速度は,Cu膜の厚さ3MLまで単調に増大した。0.25ML Znを加えると1~6MLのCu膜厚に依存せずに反応速度が増大した。反応後表面分析によるとNi基板上でCuが凝塊していた。Cu 2p X線光電子分光法(XPS)およびLMM Augerデータによると高くなった反応性に対応して膜中に大量の金属Cu原子に加えてCu⁺化学種が存在していた。Cuの酸化数はCu-Zn合金中の酸化されたZnによって調節されると提案した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ニッケル ,  *亜鉛合金 ,  *銅含有合金 ,  エピタクシー ,  *金属薄膜 ,  *脂肪族アルコール ,  *部分酸化 ,  昇温脱離 ,  TPR【触媒】 ,  酸素 ,  水素 ,  一酸化炭素 ,  二酸化炭素 ,  焼なまし ,  X線光電子スペクトル ,  脂肪族アルデヒド
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  TPD【脱着】 ,  アニール

分類 (3件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  脂肪族アルコール  (CF03090H)

物質索引 (2件)： メタノール ,  ホルムアルデヒド

タイトルに関連する用語 (7件)： Ni ,  成長 ,  Cu ,  Zn ,  薄膜 ,  メタノール ,  部分酸化