文献
J-GLOBAL ID：200902261659801841
整理番号：04A0211793
Si結晶(100)表面近傍での微細格子歪に関するX線トポグラフィー観察
X-Ray Topographic Observations of Minute Lattice Distortion near the Surface of (100) Silicon Crystals
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著者 (4件)：
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資料名：
巻：
43
号：
1
ページ：
385-388
発行年：
2004年01月15日
JST資料番号：
G0520B
ISSN：
0021-4922
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
日本 (JPN)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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標題観察を,CuKα
1またはCuKβX...
シソーラス用語：
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準シソーラス用語：
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分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の表面構造
, X線回折法
タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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