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J-GLOBAL ID:200902261760925039   整理番号:09A0291495

カチオン性表面活性ビニル単量体のラジカル共重合による単分散コロイダルシリカの修飾

Modification of Monodisperse Colloidal Silica by Radical Copolymerizatoin of Cationic Surface Active Vinyl Monomers
著者 (6件):
資料名:
巻: 41  号:ページ: 208-213 (J-STAGE)  発行年: 2009年 
JST資料番号: F0612A  ISSN: 0032-3896  CODEN: POLJB8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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表面活性単量体,すなわち,ビニル末端基を有する重合可能界面活性剤のラジカル共重合によるコロイダルシリカの吸着およびポリマー修飾を研究した。コロイダルシリカ上での開始剤の2,2′-アゾビス(2-アミジノプロパン)二塩化水素化物を用いたアミドアンモニウムモノマーとアンモニウム型架橋剤(モノマー)のラジカル共重合は結果として単分散架橋重合体/SiO2複合材料の生成に導き,それは有機溶剤中で安定であった。2つのアンモニウムモノマーの反応系へのカルボン酸モノマーの添加は,カルボキシル基を有する均一ポリマー被覆シリカ複合材料を与えた。複合材料は,水とエタノール,それぞれにおいて-36mVおよび0mVのζ-ポテンシャルを示す。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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共重合  ,  固体デバイス製造技術一般 
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