文献

J-GLOBAL ID：200902263699118799   整理番号：07A0050931

高圧型クリーンドライエア供給装置「CDASS-HP-0.1」の開発

著者 (3件)： 河岡将行 (高砂熱学工業 総研) ,  秋山貴洋 (高砂熱学工業 総研) ,  五味弘 (高砂熱学工業 総研)
資料名： 高砂熱学工業総合研究所報  (Report of Research & Development Center of Takasago Thermal Engineering)
号： 20  ページ： 10-13  発行年： 2006年12月 
JST資料番号： L2434A  ISSN： 0918-9734  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： クリーンドライエア(CDA)とは半導体を初めとする電子デバイ...

シソーラス用語： 高圧 ,...
準シソーラス用語： 半導体産業 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0050931&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L2434A") }}

分類 (1件)： 空気浄化  (PC02060X)

引用文献 (4件)：

• James Beasley: Energy conservation in Semiconductor Fabs-Key Challenges and SEMATECH’s Response, SEMI^R Global Environment Symposium, 53-66(2004)
• International SEMATECH, The International Technology Roadmap for Semiconductors 2005 Edition
• 西村浩一, 三澤雄一, 佐藤峰彦: クリーンドライエア (CDA) の適用について, 高砂熱学工業研究所報, 16, 65-71(2002)
• 特願2006-6316, ガス精製用の吸着塔および吸着剤の再生処理方法

タイトルに関連する用語 (5件)： 高圧 ,  クリーンドライエア ,  供給装置 ,  HP ,  開発