193nm空間像を通した欠陥配置の先端的研究

DUERR Arndt C.; ZIBOLD Axel M.; BOEHM Klaus

文献

J-GLOBAL ID：200902263969365041 整理番号：06A0578416

193nm空間像を通した欠陥配置の先端的研究

An advanced study for defect disposition through 193nm aerial imaging

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資料名：
巻： 6152 号： Pt.2 ページ： 61522M.1-61522M.9 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

二種類の193nmAIMS装置(AIMS fab 193i及...

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固体デバイス製造技術一般

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