アルカリ水溶液中におけるSi(100)表面上でのNiの沈着挙動

NIWA D; HOMMA T; OSAKA T

文献

J-GLOBAL ID：200902267212279798 整理番号：05A0257897

アルカリ水溶液中におけるSi(100)表面上でのNiの沈着挙動

Deposition Behavior of Ni on Si(100) Surfaces in an Aqueous Alkaline Solution

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資料名：
巻： 152 号： 2 ページ： C54-C59 発行年： 2005年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

種々の条件下でアルカリ水溶液中において,Si(100)表面上...

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コバルトとニッケルの錯体 , 無電解めっき , 固体デバイス製造技術一般

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