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J-GLOBAL ID：200902267673435104   整理番号：03A0227682

反応性スパッタリング法によるε-,η-Mn窒素化合物薄膜の作製とその磁気的・電気的特性

Magnetic and Electrical Properties of ε- and η-Mn Nitride Thin Films Formed by the Reactive Sputtering Method.

著者 (2件)： 森尾和正 (東海大 大学院工学研究科) ,  小泉義晴 (東海大 大学院工学研究科)
資料名： 日本応用磁気学会誌  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 27  号： 4  ページ： 344-347  発行年： 2003年04月01日 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 0285-0192  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： (111)軸に沿ってε-Mn₄Nと(1...

シソーラス用語： 反応性スパッタリング ,...
準シソーラス用語： Bohr磁子 ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の磁性  (BM06060P) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

引用文献 (13件)：

• 1) H. Hirayama, A. Kinoshita, T. Yamanaka, A. Hirata and Y. Aoyagi: Mater. Res. Soc. Proc., 639 (2000) G2.8.
• 2) S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, Y. Sugimoto and H. Kiyoku: Jpn. J. Appl. Phys., 36, L1059 (1997).
• 3) A. Zerr, G. Miehe, G. Serghiou, M. Schwarz, R. Kroke, R. Riedel, H. Fuess, P. Kroll and R. Boehler: Nature, 400, 340 (1999).
• 4) Y. Sugita, K. Mitsuoka, M. Komuro, Y. Kozono and M. Hamazono: J. Appl. Phys., 70, 5977 (1995).
• 5) A. Leineweber, R. Niewa, H. Jacobs and W. Kockelmann: J. Mater. Chem., 10, 2827 (2000).

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性スパッタリング ,  Mn ,  窒素化合物 ,  薄膜 ,  作製 ,  磁気 ,  電気的特性