僅少の軽いオレフィンを含む大気ガスの均質高圧プラズマにおけるヒドロキシルラジカルの生成と反応度

MAGNE L; PASQUIERS S; BLIN-SIMIAND N; POSTEL C

文献

J-GLOBAL ID：200902267903994728 整理番号：07A0567844

僅少の軽いオレフィンを含む大気ガスの均質高圧プラズマにおけるヒドロキシルラジカルの生成と反応度

Production and reactivity of the hydroxyl radical in homogeneous high pressure plasmas of atmospheric gases containing traces of light olefins

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巻： 40 号： 10 ページ： 3112-3127 発行年： 2007年05月21日
JST資料番号： B0092B ISSN： 0022-3727 CODEN： JPAPBE 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

光トリガ放電を用いて,全圧460mbarでのエタンまたはエテ...

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プラズマ応用

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