基板上で秩序化したナノスケールシリカカプセル  ポリ(スチレン-b-ジメリルシロキサン)のナノセル状薄膜の酸化

LI Lei; YOKOYAMA Hideaki

文献

J-GLOBAL ID：200902268142119930 整理番号：06A0846187

基板上で秩序化したナノスケールシリカカプセルポリ(スチレン-b-ジメリルシロキサン)のナノセル状薄膜の酸化

Nanoscale Silica Capsules Ordered on a Substrate: Oxidation of Nanocellular Thin Films of Poly(styrene-b-dimethylsiloxane)

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巻： 45 号： 38 ページ： 6338-6341 発行年： 2006年09月25日
JST資料番号： H0127B ISSN： 1433-7851 CODEN： ACIEAY 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

シリコンウエハ上に厚さ43nm及びポリジメチルシロキサン(P...

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酸化物薄膜 , その他の無触媒反応 , 非金属化合物 , 高分子担体・触媒反応

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基板上で秩序化したナノスケールシリカカプセル ポリ(スチレン-b-ジメリルシロキサン)のナノセル状薄膜の酸化

基板上で秩序化したナノスケールシリカカプセルポリ(スチレン-b-ジメリルシロキサン)のナノセル状薄膜の酸化