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J-GLOBAL ID:200902269983841016   整理番号:07A0419571

材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-8.フルオロカーボンプラズマCVDを用いた低誘電率薄膜の作製

著者 (1件):
資料名:
巻: 83  号:ページ: 350-355  発行年: 2007年04月25日 
JST資料番号: G0114A  ISSN: 0918-7928  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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配線の高密度化によって,集積回路のパフォーマンスは,配線の抵...
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (42件):
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