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J-GLOBAL ID：200902270049914538   整理番号：03A0542472

真空アーク蒸着したTiN/c-Si被覆層の結晶粒径,内部応力,硬さに対する基板バイアス電位の影響

Effect of the substrate bias potential on crystalline grain size, intrinsic stress and hardness of vacuum arc evaporated TiN/c-Si coatings

著者 (4件)： ESPINOZA-BELTRAN F J (CINVESTAV-IPN, Qro., MEX) ,  CHE-SOBERANIS O (CINVESTAV-IPN, Qro., MEX) ,  GARCIA-GONZALEZ L (CINVESTAV-IPN, Qro., MEX) ,  MORALES-HERNANDEZ J (Univ. Autonoma de Queretaro, Qro., MEX)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 437  号： 1/2  ページ： 170-175  発行年： 2003年08月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空アーク蒸着法によってTiN被覆層をc-Si基板上に基板バ...

シソーラス用語： *結晶粒度 ,...
準シソーラス用語： 窒化チタン ,...

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分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (9件)： 真空アーク蒸着 ,  TiN ,  Si ,  被覆層 ,  結晶粒径 ,  内部応力 ,  硬さ ,  基板バイアス ,  電位