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J-GLOBAL ID:200902270696496772   整理番号:04A0042430

Si(110)上のけい化ジスプロシウムナノ細線

Dysprosium silicide nanowires on Si(110)
著者 (4件):
資料名:
巻: 83  号: 25  ページ: 5292-5294  発行年: 2003年12月22日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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シリコン基板上でのけい化ジスプロシウムナノ細線(NW)の形成...
シソーラス用語:
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その他の無機化合物の薄膜 
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