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J-GLOBAL ID：200902270933752789   整理番号：06A0464739

将来のリソグラフィ用高出力極端紫外(EUV)光源

High power extreme ultra-violet (EUV) light sources for future lithography

著者 (1件)： JONKERS Jeroen (Philips Extreme UV, Aachen, DEU)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 15  号： 2  ページ： S8-S16  発行年： 2006年05月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体産業では,2009年までにパターン線幅32nmの実現を...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...

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分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  X線技術  (BA02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： リソグラフィ ,  高出力 ,  極端紫外 ,  EUV