文献

J-GLOBAL ID：200902271380092293   整理番号：04A0635559

低Pd負荷の無配位子Heck反応

Ligand-free Heck reactions using low Pd-loading

著者 (2件)： REETZ M T (Max-Planck-Inst. Kohlenforsch., Muelheim/Ruhr, DEU) ,  DE VRIES J G (DSM Pharma Chemicals, Geleen, NLD)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
号： 14  ページ： 1559-1563  発行年： 2004年07月21日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,有機溶媒中の極めて低いPd負荷の無配位子Heck反応が...

シソーラス用語： *Heck反応 ,...

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分類 (1件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M)

タイトルに関連する用語 (3件)： PD ,  配位子 ,  Heck反応