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J-GLOBAL ID：200902272480646330   整理番号：09A0427081

酸素イオンビーム照射を用いたガラス状炭素表面上の無反射構造の作製

Fabrication of Non Reflective Structure on Glassy Carbon Surface Using Oxygen Ion Beam Irradiation

著者 (3件)： TANIGUCHI Jun (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  NEMOTO Yoshimi (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  SUGIYAMA Yoshinari (ELIONIX Inc., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 9  号： 1  ページ： 445-449  発行年： 2009年01月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フラットパネルディスプレイの大型化に伴い,大面積の無反射表面を低コストで作製する方法が要求される。本報では,酸素イオンビーム照射を用いてガラス状炭素表面に無反射構造を作製する方法を試みた。照射条件を注意深く選択し,照射したガラス状炭素表面の形態と反射防止効率との関係を調べた。500eVのイオンビームを24分以上照射したときに,高さ250nm以上の円錐からなる無反射構造を形成できた。フラットパネルディスプレイ応用には,ガラス状炭素ではなく,透明材料を選択する必要があるが,本報は安価な無反射表面加工法として有望である。

シソーラス用語： *ガラス状炭素 ,  異常反射 ,  フラットパネルディスプレイ ,  イオン照射 ,  100-1000eV ,  *イオンエッチング ,  可視光 ,  反射率
準シソーラス用語： *酸素イオンビーム照射 ,  *反射防止構造 ,  無反射

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過  (BD03020B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素 ,  イオンビーム照射 ,  ガラス状炭素 ,  作製