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J-GLOBAL ID：200902274987117626   整理番号：03A0505138

すず修飾シリカのメソポーラス薄膜の調製

Preparation of Tin Modified Silica Mesoporous Film.

著者 (5件)： YULIARTO B (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  ZHOU H-S (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  YAMADA T (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HONMA I (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  ASAI K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Studies in Surface Science and Catalysis  (Studies in Surface Science and Catalysis)
巻： 146  ページ： 81-84  発行年： 2003年 
JST資料番号： W0250A  ISSN： 0167-2991  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直接合成によって修飾シリカメソポーラス薄膜を初めて調製した。...

シソーラス用語： *薄膜 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (2件)： 合成鉱物  (CD01040K) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： セチルトリメチルアンモニウムクロリド

タイトルに関連する用語 (6件)： すず ,  修飾 ,  シリカ ,  メソポーラス ,  薄膜 ,  調製