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J-GLOBAL ID：200902275009999516   整理番号：05A0789136

プラズマ増強CVDによって成長したニッケル触媒カーボンナノチューブ膜の断面TEM研究

Cross-sectional TEM investigation of nickel-catalysed carbon nanotube films grown by plasma-enhanced CVD

著者 (5件)： YAO Y. (Chalmers Univ. Technol., Goeteborg, SWE) ,  FALK L. K. L. (Chalmers Univ. Technol., Goeteborg, SWE) ,  MORJAN R. E. (Goeteborg Univ., Goeteborg, SWE) ,  NERUSHEV O. A. (Goeteborg Univ., Goeteborg, SWE) ,  CAMPBELL E. E. B. (Goeteborg Univ., Goeteborg, SWE)
資料名： Journal of Microscopy  (Journal of Microscopy)
巻： 219  号： 2  ページ： 69-75  発行年： 2005年08月 
JST資料番号： B0454B  ISSN： 0022-2720  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ増強化学気相堆積(PECVD)によって合成したニッケ...

シソーラス用語： *プラズマCVD ,...
準シソーラス用語： 局所分析

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

物質索引 (1件)： アセチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ増強CVD ,  成長 ,  ニッケル触媒 ,  カーボンナノチューブ ,  断面TEM ,  研究