電気化学エッチングとリソグラフィーによる大面積三次元構造形成

MATTHIAS S; MUELLER F; JAMOIS C; WEHRSPOHN R B; GOESELE U

文献

J-GLOBAL ID：200902275050766536 整理番号：05A0100699

電気化学エッチングとリソグラフィーによる大面積三次元構造形成

Large-Area Three-Dimensional Structuring by Electrochemical Etching and Lithography

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資料名：
巻： 16 号： 23/24 ページ： 2166-2170 発行年： 2004年12月27日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

フォトリソグラフィーで事前パターン化したシリコン基板(ウエハ...

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量子光学一般 , 固体デバイス製造技術一般

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