文献
J-GLOBAL ID:200902276343326413   整理番号:05A0659714

シリコンおよび多孔質シリコンの化学気相エッチング:シリコン太陽電池およびマイクロマシニングへの応用

Chemical vapour etching of silicon and porous silicon: silicon solar cells and micromachining applications
著者 (6件):
資料名:
巻: 202  号:ページ: 1606-1610  発行年: 2005年06月 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
最近,多孔質シリコンをオプトエレクトロニクス,シリコン太陽電...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0659714&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0774A") }}
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス製造技術一般 

前のページに戻る