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J-GLOBAL ID：200902277234349817   整理番号：09A0605443

低い仕事関数のリンドープダイヤモンド膜からの熱イオン性電子放出

Thermionic electron emission from low work-function phosphorus doped diamond films

著者 (6件)： KOECK Franz A.M. (Dep. of Physics, Arizona State Univ., Tempe, AZ 85287 USA) ,  NEMANICH Robert J. (Dep. of Physics, Arizona State Univ., Tempe, AZ 85287 USA) ,  LAZEA Andrada (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  LAZEA Andrada (Div. IMOMEC, IMEC vzw, Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  HAENEN Ken (Inst. for Materials Res. (IMO), Hasselt Univ., Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL) ,  HAENEN Ken (Div. IMOMEC, IMEC vzw, Wetenschapspark 1, B-3590 Diepenbeek, BEL)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 18  号： 5-8  ページ： 789-791  発行年： 2009年05月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱イオン電子エミッタは,通信用の進行波管から宇宙推進,および直接エネルギー変換の用途での主要な部品である。金属エミッタに基づく従来の手法は高い操作温度を必要とするので,適切な供与体と組合わせたダイヤモンド表面の負の電子親和力(NEA)特性は,低有効仕事関数に対応する電子構造を可能にするだろう。かくして,水素プラズマへの膜表面の曝露によりNEAの表面特性を誘起して,プラズマ増強化学蒸着法により金属基板上にリンドープ多結晶ダイヤモンド膜を調製した。375°C以下の温度で放出電流を観察するRichardson-Dushman関係に関して,UHV環境での熱イオン電子放出の測定が行われた。測定は電子放出電流の殆ど減少なしで765°Cで終了し,ダイヤモンド表面の安定な水素不動態化を示した。Richardson方程式への放出データの適合は放出パラメータの抽出を可能にして,材料の仕事関数値が0.9eVと評価された。この値は既知の材料中で最も低い仕事関数の測定値であろう。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  セラミック膜 ,  ドーパント ,  リン ,  イオン放出 ,  *熱電子放出 ,  仕事関数 ,  多結晶 ,  プラズマCVD ,  不動態化

分類 (3件)： イオン放出  (BM09070V) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 仕事関数 ,  熱イオン ,  電子放出