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J-GLOBAL ID：200902277317285721   整理番号：05A0433434

電子線照射によるポリイミドの屈折率制御

著者 (1件)：
山下俊

山下俊 について

(東京理大 理工)

東京理大 理工 について


資料名：
放射線化学  (Radiation Chemistry)

放射線化学 について


号： 79  ページ： 19-23  発行年： 2005年03月31日 
JST資料番号： Y0755A  ISSN： 0286-6722  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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耐熱性と耐放射線性に優れたポリイミドは,分子内に電子過剰性芳...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*電子照射

電子照射 について

,...
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分類 (2件)：
分類
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その他の物質の放射線による構造と物性の変化 
(BK16124V)

その他の物質の放射線による構造と物性の変化 について

,  放射線高分子化学 
(CG03050S)

放射線高分子化学 について

物質索引 (6件)：
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです
N-フェニルフタルイミド

N-フェニルフタルイミド について

, 
ピロメリット酸無水物

ピロメリット酸無水物 について

, 
2-[4-(シクロヘキシルメチル)シクロヘキシル]ベンゾ[1,2-c:4,5-c′]ジピロール-1,3,5,7(2H,6H)-テトラオン

2-[4-(シクロヘキシルメチル)シクロヘキシル]ベンゾ[1,2-c:4,5-c′]ジピロール-1,3,5,7(2H,6H)-テトラオン について

, 
2-(4-ベンジルフェニル)-5,5′-ビ[2H-イソインドール]-1,1′,3,3′-テトラオン

2-(4-ベンジルフェニル)-5,5′-ビ[2H-イソインドール]-1,1′,3,3′-テトラオン について

, 
1-(4-ベンジルフェニル)-3,3′-ビ[ピロリジン]-2,2′,5,5′-テトラオン

1-(4-ベンジルフェニル)-3,3′-ビ[ピロリジン]-2,2′,5,5′-テトラオン について

, 
2-(4-シクロヘキシルメチルシクロヘキシル)-5,5′-ビ[2H-イソインドール]-1,1′,3,3′-テトラオン

2-(4-シクロヘキシルメチルシクロヘキシル)-5,5′-ビ[2H-イソインドール]-1,1′,3,3′-テトラオン について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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電子線照射

電子線照射 について

, 
ポリイミド

ポリイミド について

, 
屈折率

屈折率 について


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