文献

J-GLOBAL ID：200902278114558052   整理番号：06A0752787

Cat-CVD法を用いたPTFE膜形成時の堆積速度の安定化

著者 (6件)： 安岡裕章 (北陸先端科学技術大学院大) ,  吉田昌弘 (北陸先端科学技術大学院大) ,  杉田健 (北陸先端科学技術大学院大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大) ,  松村英樹 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 67th  号： 3  ページ： 1113  発行年： 2006年08月29日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=06A0752787&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： Cat-CVD ,  PTFE膜 ,  堆積速度 ,  安定化