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J-GLOBAL ID：200902278379759564   整理番号：06A0768864

シリカに担持したTi酸化物クラスタによる気相ラジカル生成 酸化剤として分子状酸素を用いたプロピレンのプロピレンオキシドへの直接酸化への適用

Gas-phase radical generation by Ti oxide clusters supported on silica: application to the direct epoxidation of propylene to propylene oxide using molecular oxygen as an oxidant
著者 (8件)：
MIMURA Naoki

MIMURA Naoki について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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TSUBOTA Susumu

TSUBOTA Susumu について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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MURATA Kazuhisa

MURATA Kazuhisa について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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BANDO Kyoko K.

BANDO Kyoko K. について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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BRAVO-SUAREZ Juan J.

BRAVO-SUAREZ Juan J. について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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HARUTA Masatake

HARUTA Masatake について

(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)

Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN について

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OYAMA S. Ted

OYAMA S. Ted について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

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OYAMA S. Ted

OYAMA S. Ted について

(Virginia Tech, VA, USA)

Virginia Tech, VA, USA について


資料名：
Catalysis Letters  (Catalysis Letters)

Catalysis Letters について


巻： 110  号： 1/2  ページ： 47-51  発行年： 2006年08月 
JST資料番号： T0669A  ISSN： 1011-372X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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SiO2に担持した酸化チタン二量体を含...
シソーラス用語：
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遷移金属触媒

遷移金属触媒 について

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シリカ

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分類 (1件)：
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不均一系触媒反応 
(CB06100E)

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シリカ

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Ti酸化物

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ラジカル生成

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酸化剤

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プロピレン

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