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J-GLOBAL ID：200902278508999151   整理番号：05A0018796

セラミックスの微細加工技術 放射光を用いたセラミックス微細加工技術とその応用

Ceramics Micro Fabrication Method of Ceramics Realized by Synchrotron Radiation and its Applications

著者 (4件)： 平田嘉裕 (住友電気工業 エレクトロニクス・材料研) ,  仲前一男 (住友電気工業 エレクトロニクス・材料研) ,  沼沢稔之 (住友電気工業 エレクトロニクス・材料研) ,  高田博史 (住友電気工業 エレクトロニクス・材料研)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 39  号： 12  ページ： 1006-1009  発行年： 2004年12月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シンクロトロン放射光の高強度の直線性軟X線を利用したリソグラ...

シソーラス用語： *セラミック成形 ,...

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分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (9件)：

• ROGNER, A. J. Micromech. Microeng. 1992, 2, 3, 133-140
• SMITH, W. A. Proc. IEEE Ultrason. Symp '89. 1989, 755-766
• GURURAJA, T. R. Am. Ceram. Soc. Bull. 1994, 73, 5, 50-55
• 平田嘉裕. SEIテクニカルレビュー. 1997, 151, 180-184
• NUMAZAWA, T. Microsystem Technologies. 1996, 2, 2, 46-49

タイトルに関連する用語 (4件)： セラミックス ,  微細加工技術 ,  放射光 ,  応用