高速パルスプラズマ溶射によって溶着した高摩擦係数をもった緻密なSi<sub>3</sub>N<sub>4</sub>皮膜

USUBA S.; HEIMANN R. B.

文献

J-GLOBAL ID：200902282327082938 整理番号：06A0732050

高速パルスプラズマ溶射によって溶着した高摩擦係数をもった緻密なSi₃N₄皮膜

Dense Si₃N₄ Coatings with High Friction Coefficient Deposited by High-Velocity Pulsed Plasma Spraying

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巻： 15 号： 3 ページ： 356-363 発行年： 2006年09月
JST資料番号： W0482A ISSN： 1059-9630 CODEN： JTTEE5 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

電磁加速プラズマ溶射(EMAP)を用いて,3種類のSi<su...

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金属材料へのセラミック被覆

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高速パルスプラズマ溶射によって溶着した高摩擦係数をもった緻密なSi3N4皮膜

高速パルスプラズマ溶射によって溶着した高摩擦係数をもった緻密なSi₃N₄皮膜