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J-GLOBAL ID：200902282984407472   整理番号：08A0577552

高速電子が電離現象とEUV放射の影響を考慮したホロー陰極トリガ放電中のプラズマ挙動

Plasma dynamics in a hollow cathode triggered discharge with the influence of fast electrons on ionization phenomena and EUV emission

著者 (5件)： ZAKHAROV S V (EPPRA sas, Villebon/Yvette, FRA) ,  ZAKHAROV V S (Keldysh Inst. Applied Mathematics RAS, Moscow, RUS) ,  NOVIKOV V G (Keldysh Inst. Applied Mathematics RAS, Moscow, RUS) ,  MOND M (Ben-Gurion Univ., Beer-Sheva, ISR) ,  CHOI P (EPPRA sas, Villebon/Yvette, FRA)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 17  号： 2  ページ： 024017,1-13  発行年： 2008年05月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホロー陰極と陽極をキャピラリで結ぶ放電配位で低圧放電させ,各段階での物理現象を2D計算機コードZ*で解析した。すなわち電子ビーム発生,電離波によるチャネル形成,電離・プラズマ放射を含む放電挙動である。特に光源としての応用との関連で,低温ArおよびXeプラズマからのEUV帯の放射に重点を置く。逃走電子は電離波伝搬と多価イオン電離に大きな影響を及ぼす。放電の段階に応じて電磁流体力学,電離反応,放射輸送等のモデルを組み合わせてシミュレーション解析する。EUV放射特性を重点として解析結果を示す。

シソーラス用語： *ホロー陰極放電 ,  *紫外光源 ,  極端紫外線 ,  電離波 ,  電子ビーム ,  *プラズマシミュレーション ,  計算機シミュレーション ,  逃走電子
準シソーラス用語： EUV ,  キャピラリ放電

分類 (3件)： プラズマ生成・加熱  (BJ02060E) ,  プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (10件)： 高速電子 ,  電離 ,  現象 ,  EUV ,  放射 ,  ホロー陰極 ,  トリガ ,  放電 ,  プラズマ ,  挙動