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J-GLOBAL ID：200902283540066616   整理番号：09A0511484

表面・界面を観る非線形分光の新しい展開 IRパルスレーザー照射後のH-Si(111)1×1表面の共鳴電子準位像と分子振動像の同時観察

著者 (7件)： 宮内良広 (北陸先端科学技術大学院大) ,  宮内良広 (JST-CREST) ,  佐野陽之 (北陸先端科学技術大学院大) ,  佐野陽之 (JST-CREST) ,  佐野陽之 (石川工高専) ,  水谷五郎 (北陸先端科学技術大学院大) ,  水谷五郎 (JST-CREST)
資料名： 表面・界面を観る非線形分光の新しい展開 ミニ公開シンポジウム要旨集 理研シンポジウム 平成21年  (文部科学省科学研究費補助金特定領域研究)
ページ： (JA)34,(EN)33  発行年： 2009年 
JST資料番号： N20091109  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 非線形光学 ,  *パルスレーザ照射 ,  *分子振動 ,  *ケイ素 ,  熱脱着 ,  レーザCVD ,  赤外線 ,  *電子状態 ,  ダングリングボンド ,  伸縮振動【分子】 ,  *水素 ,  *吸着平衡 ,  気固界面
準シソーラス用語： LITD【脱着】

分類 (3件)： 非線形光学  (BD05000T) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (11件)： 界面 ,  非線形 ,  分光 ,  展開 ,  IR ,  パルスレーザー照射 ,  Si ,  共鳴 ,  電子 ,  分子振動 ,  観察