高品質SiO<sub>2</sub>薄膜用の技法

NGUYEN J.; RAZEGHI M.

文献

J-GLOBAL ID：200902283893829532 整理番号：07A0503117

高品質SiO₂薄膜用の技法

Techniques for High-Quality SiO₂ Films

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資料名：
巻： 6479 ページ： 64791K.1-64791K.8 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

表面不活性化層用の高品質SiO₂を堆積...

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測光と光検出器一般

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高品質SiO2薄膜用の技法

高品質SiO₂薄膜用の技法