文献

J-GLOBAL ID：200902284693452660   整理番号：08A0410893

D-ARS(Dustproof Anti-Reflection Structure)の開発 ナノインプリント技術による無反射・防塵構造の実現と光学デバイスへの応用展開について

著者 (3件)： 西崎修 (オムロン) ,  藤岡良介 (オムロン) ,  伊藤嘉則 (オムロン)
資料名： Omron Technics (Web)  (Omron Technics (Web))
巻： 48  号： 1  ページ： 29-34 (WEB ONLY)  発行年： 2007年09月 
JST資料番号： U0053A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在ナノインプリント技術はナノオーダーの精度を確保しながら,高タクトで安価に所望のパターンを形成する複製生産技術として盛んに研究されている。このナノインプリント技術の一つである2P法(Photo Polymerization Method)を用いて,従来困難であったナノオーダーの構造体を無数に並べて形成することで光の反射率を低減するD-ARS(Dustproof Anti-Reflection Structure)を実現した。このD-ARSは最表面がナノ構造であり,フッ素系ポリマを配合した紫外線硬化樹脂を用いることで高撥水かつ撥油効果も発現する。これらの特徴を活かすことで防塵・防汚性の要求される光学デバイスへの用途展開の可能性を確認した。本稿ではD-ARSの設計・製造プロセスを紹介し試作を通じて検証した光学デバイスへの展開性について述べる。(著者抄録)

シソーラス用語： *押付成形 ,  *防塵処理 ,  *反射防止膜 ,  *ナノ構造 ,  光重合型樹脂 ,  撥水 ,  汚染防止 ,  *光学素子 ,  光重合 ,  構造設計 ,  反射率
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  紫外線硬化樹脂

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 開発 ,  ナノインプリント ,  無反射 ,  防塵構造 ,  光学デバイス ,  応用 ,  展開