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J-GLOBAL ID:200902285646444329   整理番号:08A0617296

種々の中間層を有するMPECVDを用いたガンマチタンアルミナイド上のCVDダイヤモンド被覆の作製

Preparation of CVD diamond coatings on gamma titanium aluminide using MPECVD with various interlayers
著者 (4件):
資料名:
巻: 82  号: 11  ページ: 1325-1331  発行年: 2008年06月19日 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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γ-TiAlの耐摩耗性と特性改善のため,マイクロ波プラズマ増強CVDを用いてγ-TiAl表面にCVDダイヤモンド被覆をおこなった。ダイヤモンド被覆は直接γ-TiAl基板上に蒸着し,またγ-TiAl基板上に作製したTiC,Ti5Si3,Al2O3+TiO2,およびSi中間層上にも蒸着した。γ-TiAl上に直接蒸着したダイヤモンド被覆には激しい剥離と亀裂が生じた。TiCおよびTi5Si3中間層上のものは部分的に剥離し,Al2O3+TiO2およびSi中間層上のものはγ-TiAlの表面とよく接着した。作製したダイヤモンド膜は,走査電子顕微鏡,Raman分光,およびX線回折により評価した。Ramanスペクトルにより,γ-TiAl上に多結晶およびナノ結晶ダイヤモンドの成長を観測した。中間層を有するγ-TiAl上に蒸着したダイヤモンド被覆の内部応力を,Ramanスペクトルから実験的に評価した。Al2O3+TiO2/γ-TiAlおよびSi/γ-TiAl上の被覆は残留応力が低かった。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  固体の機械的性質一般  ,  気相めっき 
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