パルスレーザ蒸着による高移動度の透明導電性MoドープIn<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜

WARMSINGH C; YOSHIDA Y; READEY D W; TEPLIN C W; PERKINS J D; PARILLA P A; GEDVILAS L M; KEYES B M; GINLEY D S

文献

J-GLOBAL ID：200902286273216130 整理番号：04A0304691

パルスレーザ蒸着による高移動度の透明導電性MoドープIn₂O₃薄膜

High-mobility transparent conducting Mo-doped In₂O₃ thin films by pulsed laser deposition

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巻： 95 号： 7 ページ： 3831-3833 発行年： 2004年04月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ガラスおよび(100)YSZ単結晶基板上に標記薄膜を成長させ...

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酸化物薄膜

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パルスレーザ蒸着による高移動度の透明導電性MoドープIn2O3薄膜

パルスレーザ蒸着による高移動度の透明導電性MoドープIn₂O₃薄膜