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J-GLOBAL ID:200902286507007522   整理番号:09A1243778

フェムト秒レーザパルスによるシリコン照射時のレーザ誘起周期的表面構造の形成における表面プラズモンポラリトンの役割

On the role of surface plasmon polaritons in the formation of laser-induced periodic surface structures upon irradiation of silicon by femtosecond-laser pulses
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資料名:
巻: 106  号: 10  ページ: 104910  発行年: 2009年11月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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空気中で単一または多重フェムト秒レーザパルス(パルス幅τ=130fsで中心波長λ=800nm)で照射した単結晶シリコン上での近波長サイズのレーザ誘起周期的表面構造(LIPSS)の形成を実験的および理論的に調べた。著者らの理論的アプローチでは,高密度電子-正孔プラズマの励起による材料の光学的性質の過渡パルス内変化を説明するために,一般的に受入れられているSipeと共同研究者による第一原理理論をDrudeのモデルと結び付けることによって,LIPSS形成をモデル化した。得られた結果はレーザ波長よりいくらか小さいLIPSSの空間的周期,LIPSSのレーザビーム偏極に垂直な配向およびLIPSSの特性照射線量依存性を定量的に説明することができる。さらに,フェムト秒レーザ照射シリコンの近波長サイズ周期的表面構造の初期段階では表面プラズモンポラリトンが重要な役割を演じるという証拠を示し,単一フェムト秒パルス照射を用いることによってシリコンの場合にはこれらのLIPSSの形成ができることを実証した。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
分類
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レーザ照射・損傷  ,  半導体の表面構造  ,  ポラリトン 

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