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J-GLOBAL ID：200902286522217282   整理番号：06A1021386

金属・半導体材料の小角散乱実験:異常小角散乱とGI-SAXS

Application of Small-angle scattering to metallic and semiconducting materials:examples from anomalous small-angle scattering (ASAXS) and grazing-incidence small-angle scattering (GISAXS)

著者 (3件)： 奥田浩司 (京大 国際融合創造セ) ,  大高幹雄 (京大 大学院工学研究科) ,  落合庄治郎 (京大 国際融合創造セ)
資料名： 放射光  (日本放射光学会誌)
巻： 19  号： 6  ページ： 419-428  発行年： 2006年11月30日 
JST資料番号： L0956A  ISSN： 0914-9287  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 無機材料への小角散乱の有用な二つの応用,すなわち異常小角散乱...

シソーラス用語： *無機材料 ,...
準シソーラス用語： 形状 ,...

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分類 (1件)： X線回折法  (BK01020I)

引用文献 (38件)：

• GUINIER, A. Small-angle scattering of X-rays. 1955, 195
• KOSTORZ, G. Physical Metallurgy. 1983, 793
• GEROLD, V. Small-angle X-ray Scattering. 1965, 277
• LOEFFLER, J. Phys. Rev. Letters. 2000, 85, 1990
• YOKOYAMA, Y. Mater. Trans. 2002, 43, 575

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体材料 ,  小角散乱 ,  実験 ,  GI-SAXS