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J-GLOBAL ID：200902286970198108   整理番号：05A0849695

Diamond/SiO₂マスクエッチングの選択比向上

著者 (3件)： 吉川博道 (産業技術総合研 ダイヤモンド研究セ) ,  SHIN Dongchan (産業技術総合研 ダイヤモンド研究セ) ,  鹿田真一 (産業技術総合研 ダイヤモンド研究セ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 66th  号： 2  ページ： 499  発行年： 2005年09月07日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

物質索引 (1件)： テトラフルオロメタン

タイトルに関連する用語 (2件)： SiO2 ,  マスクエッチング