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J-GLOBAL ID：200902287052482550   整理番号：09A1218771

冷時ガス供給及び熱時散布の撹拌反応器内の局所的間隙率及び気泡径分布

Local void fraction and bubble size distributions in cold-gassed and hot-sparged stirred reactors

著者 (4件)： BAO Yuyun (State Key Lab. of Chemical Resource Engineering, School of Chemical Engineering, Beijing Univ. of Chemical Technol. ...) ,  CHEN Lei (State Key Lab. of Chemical Resource Engineering, School of Chemical Engineering, Beijing Univ. of Chemical Technol. ...) ,  GAO Zhengming (State Key Lab. of Chemical Resource Engineering, School of Chemical Engineering, Beijing Univ. of Chemical Technol. ...) ,  CHEN Jianfeng (School of Chemical Engineering, Beijing Univ. of Chemical Technol., Beijing 100029, CHN)
資料名： Chemical Engineering Science  (Chemical Engineering Science)
巻： 65  号： 2  ページ： 976-984  発行年： 2010年01月16日 
JST資料番号： B0254A  ISSN： 0009-2509  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 24及び81°Cの下での空気-水分散における,局所間隙率の垂直方向分布,気泡径及び気体-液体界面面積を,直径0.48m,液体保持量0.145m³の完全バッフル型円板ベースの撹拌容器内で,二重電気伝導度プローブを用いて測定した。撹拌器は2基の上昇ポンプ下の中空翼分散タービンであった。熱時条件での間隙率の垂直方向分布は,間隙率が熱システムよりかなり低いのにもかかわらず,雰囲気温度におけるものと類似していた。気泡径の垂直方向分布は,底部羽根車の上,頂部羽根車の近傍及び自由表面への終点で最大を示した。与えられた操作条件の下で,熱システムにおける全Sauter平均気泡径は冷時よりも大きく,約21%のように見えた。局部界面面積の推測値は,頂部羽根車レベルより上で最大を示した。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *撹拌槽反応器 ,  供給 ,  *気体 ,  散布 ,  *局所流 ,  *空隙率 ,  *気泡径分布 ,  電気伝導率 ,  プローブ ,  混相流 ,  *撹拌機 ,  温度依存性 ,  混合
準シソーラス用語： 気液混合 ,  多相流 ,  *熱時散布 ,  *冷時供給

分類 (2件)： 反応装置  (XE01030X) ,  装置内の物質移動及び一般  (XD01020J)

タイトルに関連する用語 (6件)： ガス供給 ,  散布 ,  撹拌 ,  反応器 ,  間隙率 ,  気泡径分布