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J-GLOBAL ID：200902287838554007   整理番号：09A0577789

バルブ金属(Hf,Zr,Nb,Ta)2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象の検討

著者 (1件)： 土橋剛 (旭川工高専)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C  (IEICE Transactions on Electronics (Japanese Edition))
巻： J92-C  号： 6  ページ： 225-228  発行年： 2009年06月01日 
JST資料番号： S0623C  ISSN： 1345-2827  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： (Hf,Zr)を上層,(Nb,Ta)を下層に組み合わせた2層膜を陽極酸化して作製した2層キャパシタの損失特性と構成元素の拡散現象を調べた結果,Hf/Nb2層陽極酸化膜においてのみ下層金属元素の上層酸化膜中への拡散が見られ,他の組合せでは下層金属元素の拡散は抑制され,Hf/Ta2層陽極酸化膜で最も低損失(tanδ=0.004)なキャパシタが得られた。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化膜 ,  アノード ,  アノード酸化 ,  多層膜 ,  *コンデンサ ,  拡散
準シソーラス用語： 陽極 ,  二層膜 ,  キャパシタ

分類 (1件)： LCR部品  (NA05030D)

引用文献 (9件)：

• 土橋 剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, 野矢 厚, “Hf-Ta-Hf3層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性とTaマイグレーション抑制効果,”信学論 (C-II), vol. J73-C-II, no.5, pp293-301, May 1990.
• 土橋 剛, 梅沢利二, 佐々木克孝, “Al-Ta二層陽極酸化膜キャパシタの誘電特性に及ぼす熱処理効果,”信学論 (C), vol. J70-C, no.4, pp. 533-540, Apri 1987.
• 土橋 剛, 中西 瞳, “バルブ金属 (Hf, Zr, Nb) 2層陽極酸化膜キャパシタの損失特性と拡散現象,”信学論 (C), vol. J90-C, no.3, pp. 291-293, March 2007.
• J. A. Davies, B. Domeij, J. P. S. Pringle, and F. Brown,“The migration of metal and oxygen during anodic film formation,” J. Electrochem. Soc., vol.112, no.7, pp. 675-680, July 1965.
• 佐々木克孝, 梅沢利二, “Ta-Al-N系膜における陽極酸化膜キャパシタの誘電特性とオージェ電子分光分析,”信学論 (C), vol. J66-C, no.8, pp. 608-615, Aug.1983.

タイトルに関連する用語 (10件)： バルブ ,  HF ,  Zr ,  Nb ,  Ta ,  2層 ,  陽極酸化膜 ,  キャパシタ ,  損失 ,  拡散現象