文献
J-GLOBAL ID:200902288274840310
整理番号:05A0126265
ラジカル酸素-ポストアニール法によるBaZr0.95Y0.05O3,SrZr0.95Y0.05O3薄膜の作製
Fabrication of BaZr0.95Y0.05O3 and SrZr0.95Y0.05O3 thin films using atomic oxygen and post-annealing
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