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J-GLOBAL ID：200902288933386428   整理番号：09A1252951

電着による効率的エレクトロクロミック酸化ニッケル薄膜

Efficient electrochromic nickel oxide thin films by electrodeposition

著者 (7件)： SONAVANE A.c. (Thin Film Materials Lab., Dep. of Physics, Shivaji Univ., Kolhapur - 416 004, Maharashtra, IND) ,  INAMDAR A.i. (Thin Film Materials Lab., Dep. of Physics, Shivaji Univ., Kolhapur - 416 004, Maharashtra, IND) ,  INAMDAR A.i. (Dep. of Semiconductor Sci., Dongguk Univ., Seoul - 100-715, KOR) ,  SHINDE P.s. (Thin Film Materials Lab., Dep. of Physics, Shivaji Univ., Kolhapur - 416 004, Maharashtra, IND) ,  DESHMUKH H.p. (Dep. of Physics, Y. M. Coll., Bharati Vidyapeeth, Erandwane, Pune, IND) ,  PATIL R.s. (Thin Film Materials Lab., Dep. of Physics, Shivaji Univ., Kolhapur - 416 004, Maharashtra, IND) ,  PATIL P.s. (Thin Film Materials Lab., Dep. of Physics, Shivaji Univ., Kolhapur - 416 004, Maharashtra, IND)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 489  号： 2  ページ： 667-673  発行年： 2010年01月21日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フッ素ドープ酸化スズ(FTO)をコートしたガラス基板上に,電着時間がそれぞれ20,30,40及び50分の一段階電着による電着法を用いて酸化ニッケル(NiO)薄膜を調製した。それらの構造,形態,光学及びエレクトロクロミック特性に及ぼす膜厚(その結果としての微細構造の変化)の効果を調べた。ポテンシャル及びサイクリックボルタングラムによる質量変化を,Ag/AgClに対して+0.3から-0.8Vの範囲で記録した。X線回折の研究から多結晶の立方晶相NiOの一段階電着を確認した。光吸収の研究は3.2eVの直接バンドギャップエネルギーを明らかにした。膜の光学的透過率は膜厚の増加と共に減少した。20分間電着した膜の均一粒状で多孔性の形態を観察した。電着時間が30分へ増加すると,膜はより圧密化し細孔が閉塞した。その後に著しい亀裂が観察された。すべての膜はOH^-を含む電解質(0.1MのKOH)中でアノードエレクトロクロミズムを示した。20分間電着した膜(膜厚104nm)において,107cm²/Cの最大着色効率と10⁴回までの着色/消色サイクルの電気化学的安定性を観察した。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *エレクトロクロミズム ,  *酸化ニッケル ,  加工時間 ,  *電着 ,  膜厚 ,  多結晶 ,  透過率 ,  着色 ,  電解質溶液 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  *半導体薄膜
準シソーラス用語： バンドギャップエネルギー

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電着 ,  酸化ニッケル ,  薄膜