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J-GLOBAL ID：200902289169164420   整理番号：09A0790508

製膜技術の動向 高品質光学薄膜量産用装置

著者 (1件)： 塩野一郎 (シンクロン)
資料名： 月刊ディスプレイ  (プロセスエンジニアのための月刊ディスプレイ)
巻： 15  号： 8  ページ： 47-54  発行年： 2009年08月01日 
JST資料番号： L4454A  ISSN： 1341-3961  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高品質光学薄膜量産用装置について概観し,その中でも光学薄膜用スパッタリング装置の量産安定性について最近の進展について述べた。また,光学薄膜製品の付加価値向上のため,光学機能に追加する性能として,硬質性能,親水性能および樹脂基板への成膜について,最近のトピックスを紹介した。はじめに,高品質光学薄膜量産用装置としてのRAS(Radical Assisted Sputtering)装置の概要を示した。RAS法の特徴は,成膜と酸化のプロセスを空間的・時間的に分けることで,高速かつ安定な成膜レートで光学薄膜を成膜できることにある。

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  *スパッタリング装置 ,  光学フィルタ ,  反射防止膜 ,  親水性 ,  大量生産 ,  安定性 ,  *スパッタリング
準シソーラス用語： 成膜

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 製膜 ,  動向 ,  高品質 ,  光学薄膜 ,  量産