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J-GLOBAL ID：200902289509732460   整理番号：05A0845670

表面酸化処理によるナノSi粒子の光学的性質

著者 (4件)： 柳沢総 (東京電機大) ,  篠田浩一 (東京電機大) ,  佐藤慶介 (東京電機大) ,  平栗健二 (東京電機大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 66th  号： 3  ページ： 1288  発行年： 2005年09月07日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  試料技術  (BA02070O)

タイトルに関連する用語 (3件)： 表面酸化 ,  Si ,  光学的性質