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J-GLOBAL ID：200902289674301075   整理番号：04A0509209

新技術 CPL低温合成プロセス開発の経緯について

著者 (1件)： 横山千昭 (東北大 多元物質科研)
資料名： 化学経済
巻： 51  号： 8  ページ： 76-81  発行年： 2004年07月01日 
JST資料番号： G0941A  ISSN： 0453-0683  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 新規な溶媒であるイオン性液体の高度利用法の開発として,環境負...

シソーラス用語： *ラクタム ,...
準シソーラス用語： イオン性液体

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分類 (3件)： 触媒操作  (XE01050T) ,  触媒反応一般  (CB06080F) ,  化学プロセス一般  (XC01010V)

物質索引 (1件)： カプロラクタム

タイトルに関連する用語 (3件)： 低温合成 ,  プロセス ,  開発