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J-GLOBAL ID:200902289742189360   整理番号:08A1109692

荷電を有するサファイア(0001)表面でのフッ素化イオン液体の分子層の形成

Molecular Layering of Fluorinated Ionic Liquids at a Charged Sapphire (0001) Surface
著者 (15件):
資料名:
巻: 322  号: 5900  ページ: 424-428  発行年: 2008年10月17日 
JST資料番号: E0078A  ISSN: 0036-8075  CODEN: SCIEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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荷電を有する固体Al2O3(0001)との界面でのトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェートアニオン([FAP]-)を含む3種類の室温イオン液体(RTILs)の温度に依存する構造について,高分解能X線反射率測定によって研究した。反射率R(q)のノーマル運動量移動,q=(4π/λ)sinα(αは入射角,λはX線波長)に対する依存性はq=0.8A-1付近に深い谷を有し,界面でカチオンとアニオンが交互に積層された約8Åのピッチの層状構造の形成を示唆した。層状RTILsの電子密度の膜厚依存性から,層状構造はカチオン層が基板表面上に存在した状態からスタートし,指数関数的にバルクの液体へ向かって減衰する。観測された減衰長さと層状構造のピッチから,界面での規則性は荷電反転効果に類似した機構に従うと推定した。
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