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J-GLOBAL ID：200902289748032535   整理番号：05A0334825

内部反射偏光解析法に基づく二次元膜厚の測定

Two-dimensional thickness measurements based on internal reflection ellipsometry.

著者 (3件)： OTSUKI Soichi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Takamatsu, JPN) ,  TAMADA Kaoru (AIST, Ibaraki, JPN) ,  WAKIDA Shin-ichi (AIST, Osaka, JPN)
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 44  号： 8  ページ： 1410-1415  発行年： 2005年03月10日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体透明基板上の有機薄膜や生体薄膜の特性を評価することは,エ...

シソーラス用語： *偏光解析法 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (1件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 内部反射 ,  偏光解析法 ,  膜厚