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J-GLOBAL ID：200902290657513865   整理番号：04A0436984

ナノコピーによる立体超薄膜構造の作成-ナノコピーに対するレジスト材料の効果-

Fabrication of 3D Nano-Architectures based on Surface Sol-Gel Process.-The effect of photo-resist polymer matrial for nano-copying-

著者 (4件)： 藤川茂紀 ,  国武豊喜 ,  緒方寿幸 ,  羽田英夫
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 84th  号： 1  ページ： 263  発行年： 2004年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノメートルオーダーの立体構造作成技術は,ナノテクノロジーの...

シソーラス用語： *超薄膜 ,...
準シソーラス用語： ナノコピー ,...

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分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (4件)： コピー ,  立体 ,  超薄膜 ,  レジスト材料