文献

J-GLOBAL ID：200902291949448645   整理番号：05A0373109

ナノ秒領域におけるSF₆ガスの不平等電界中V-t特性

著者 (5件)： 豊田裕之 (東大) ,  内内慎一郎 (東大) ,  松岡成居 (東大) ,  熊田亜紀子 (東大) ,  日高邦彦 (東大)
資料名： 電気学会全国大会講演論文集  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan)
巻： 2005  号： 1  ページ： 108  発行年： 2005年03月17日 
JST資料番号： S0653A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フッ化硫黄 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0373109&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0653A") }}

分類 (1件)： 絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノ秒 ,  SF6ガス ,  電界